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2016年6月 9日 (木)

特許情報プラットフォームの改善計画

独立行政法人 工業所有権情報・研修館は、5月31日に、

今後の特許情報プラットフォーム機能追加・改善予定を発表しました。

【スケジュール1】平成28年 7月25日(月)
1.ワン・ポータル・ドシエ(OPD)の機能追加
日本の特許出願番号をはじめとする各国の文献番号から、対応する各国(欧州、米国、韓国、中国、カナダ、国際出願)のパテントファミリーの出願・審査関連情報(ドシエ情報)を一括して、PDF形式にて照会することができます。
2.TIFF形式イメージのGIF形式化

【スケジュール2】平成28年 12月末
1. トップページのレイアウト変更
現在のトップページからより使いやすく、わかりやすいレイアウトへ変更いたします。
変更概内容は以下を予定しております。

2. 特許情報固定アドレスサービス(試行)
メール等による特許情報の共有が容易となります。

【スケジュール3】平成29年 3月末
1.印刷機能の改善
審査書類情報照会で表示される書類、パテントマップガイダンスで表示されるFタームリスト、商標出願・登録情報の結果一覧等の印刷を、レイアウトが崩れることなく行えるようにします。
2.詳細表示(特許・実用新案)のユーザーインターフェース改善
特許・実用新案の公報の項目表示の際に、画面をスクロールしても「図面」「前の文献/次の文献」を常に表示するようにします。
3.パテントマップガイダンスの分類情報への直接リンクが可能
パテントマップガイダンスの分類情報への直接リンクが可能となります。

【スケジュール4】平成30年 1~3月頃
1.特許・実用新案検索機能の刷新
特許庁システムとの連携により、データベースの共通化と検索機能の追加・改善

同日、特許庁長官が特許情報の活用促進を呼び掛ける談話を発表していますが、
https://www.jpo.go.jp/shoukai/choukan/201605_saranaru.htm

特許だけでなく、商標は、サービスや商品の名称などを考える際には、称呼検索だけでもやっておいて、似たような商標が登録されていないか(商標は全く同じでなくても似ているだけで使えない場合があるので)、チェックしておく必要がありますね。

無料で使えるこのプラットフォームでもかなりのことが分かるので、ぜひ活用されることをお勧めします。

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